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双靶离子溅射仪 J20
双靶离子溅射仪 J20
双靶离子溅射仪 J20
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双靶离子溅射仪 J20
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J20是一款低真空双靶离子溅射仪,基于磁控溅射原理,采用高性 能旋片泵快速产生一个 小于3Pa的真空压强,搭配自主研发的旋转 偏转样品台,在样品表面沉积一层均匀稳定的导电膜层,广泛适用 于追求更高分辨率或温度敏感SEM电镜样品、特别是3D粉末类样品 的喷金、喷铂、喷镀铂金合金等用途。 自动化程序控制,触摸屏操作,即插即用,简单高效。
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双靶离子溅射仪 J20