等离子体增强CVD管炉（PECVD方法）--OTF-1200X-S-HPCVD 坩埚（样品台）可移动型1200℃管式炉

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等离子体增强CVD管炉（PECVD方法）--OTF-1200X-S-HPCVD 坩埚（样品台）可移动型1200℃管式炉

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描述
OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩埚可炉管内移动（靠步进电机控制）的小型开启式管式炉。炉管直径为50mm,设备最高工作温度为1200℃。